Source laser à excimères

mla-mli_pfad.jpg
search
  • mla-mli_pfad.jpg
  • mla-mli_2_pfad.jpg
  • mlase_excimerlaser_mli-serie_bild_auf_quarzsubstrat.jpg
  • mla_arf_curve.jpg
  • mla_krf_curve.jpg

Reference number: MLA-MLI

Les sources lasers excimères, modernes et compactes, modèle MLI de chez M-Lase sont des sources de lumière UV à 193 nm ou 248 nm avec des énergies d'impulsion élevées jusqu'à 16 mJ et des taux de répétition jusqu'à 1 000 Hz !

alt

Besoin de plus d'informations ?
Contactez notre expert.

Notre équipe

Description

Source laser à excimères

 Caractéristiques:

 Avantages Client:

• Conception rigide de qualité industrielle

 Grande fiabilité

• Préionisation Corona

 Profil de faisceau homogène

• Module de puissance pulsé à semi-conducteurs moderne

 Puissance immédiatement disponible, pas de vieillissement

• Technologie de cavité avec une capacité de gaz plus élevée

 Cavité scellée-métallique pour une durée de vie prolongée

• Contrôleur d'énergie interne

 Stabilité d'énergie

• Source compacte, fonctionnement en monophasée

 Facile à utiliser, facile à intégrer

Ces lasers UV autonomes et compacts offrent les meilleures durées de vie et fiabilité disponibles sur le marché. Avec un profil de faisceau homogène et une stabilisation énergétique, ils sont idéaux pour les applications exigeantes. Une connexion simple via USB et un contrôle avec le logiciel inclus permettent une configuration rapide et une intégration facile.

Des versions OEM personnalisées avec des fonctionnalités individuelles basées sur les produits standard peuvent également être proposées. Les intégrateurs bénéficient d’interfaces standardisées et d’une solide équipe d’assistance locale.

Les modèles MLI avec le suffixe « LC » ont également la possibilité d'un refroidissement actif par eau (soit via de l'eau domestique, soit via un échangeur de chaleur externe, aucune eau DI requise) et permettent ainsi un fonctionnement continu stable à un cycle de service de 100 %.

Les longueurs d'onde disponibles sont 193 nm (gaz : ArF - Argonflourid) et 248 nm (gaz : KrF - Kryptonflourid). D'autres longueurs d'onde sont disponibles sur demande.

Veuillez consulter Laser 2000 pour obtenir de l'aide dans la planification et la mise en place d'un système approprié pour l'approvisionnement en gaz laser.

Caractéristiques: 

ArF

KrF 

Longueur d'onde (nm)

193

248

Taux de répétition max. (Hz)

200

500

1000

200

500

1000

Puissance moyenne (W)

1,2

3,0

6,0

2,0

5,0

10

Energie par impulsion (mJ) 

6

10 

Stabilité d'énergie (sigma, %)

Dimension du faisceau (à FWHM, V x H, mm)

6x3 

Divergence du faisceau (à FWHM, V x H, mrad)

2x1 

Durée d'impulsion (à FWHM, ns)

5-10 

Environnement: 

MLI

MLI-LC

Dimensions (L x B x H)

560 x 315 x 445 mm³

560 x 355 x 445 mm²

Poids

ca. 75 kg

ca. 80 kg

Refroidissement

Air forcé (interne)

Eau (via refroidisseur externe)

Alimentation

230V, 50/60Hz, 2000W max.

230V, 50/60Hz, 2000W max.

 Durée de vie:  MLase  comparée à la concurrence 
 Durée de vie dynamique (stab. à 4 mJ)  50 ~ 100 Mio de tirs  ~ 20 Mio
 Durée de vie statique (passive)   2~3 mois  ~ 1~2 semaines
 Optiques de la cavité  > 500 Mio  < 500 Mio
 Cavité laser  > 4 Giga  ~ 1 Giga

Champs d'applications:

  • Méthodes de chirurgie oculaire (ophtalmologie) au moyen du LASIK (kératomileusis in situ au laser) et de la PRK (kératectomie photoréfractive), dans lesquelles la forme de la cornée est modifiée en faveur des propriétés optiques. Pour cela, des lasers ArF sont utilisés à 193 nm.
  • Inspection visuelle et métrologie,
  • Inspection optique et micro-optique,
  • Marquage ophthalmique (verres lunettes, etc...)
  • Modelage et traçage au laser,
  • Micro-usinage de matériaux fragiles, tels que la céramique, le métal ou le plastique,
  • Ablation laser / Dépôt par laser pulsé (ICP-MS),
  • Dermatologie, par ex. g. traitement du psoriasis et du vitiligo avec des lasers XeCl à 308 nm
  • Lithographie par immersion,
  • Perçage de masque, élaboration de cibles,
  • Traitement direct sur wafer.